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化學試劑純度規范級知識總結

2022-07-14 15:35:24

化學試劑純度

試劑的規格基本上按純度(雜質量)劃分,包括高純度、光譜純度、標準、光譜純度、高純度、分析和化學純度。主管部門發布的主要質量指標有三項:優質純度、分級純度和化學純度。

(1) GR:保證試劑,也稱為一級產品或保證試劑,為99.8%。該試劑純度高,雜質含量低。它適用于重要的分析工作和科學研究工作。使用綠色瓶子標簽。

(2) 分析純度(AR)也稱為二級試劑,純度高達99.7%,略低于高純度。它適用于重要分析和一般研究工作。使用紅色瓶子標簽。

(3) 化學純度(CP),也稱為三級試劑,≥ 純度與分析純度相差較大,適用于工業、礦山和學校的一般分析工作。使用藍色(深藍色)標簽。

(4) LR:實驗室試劑,也稱四級試劑。

除上述四個層面外,還有:

Pt:一級試劑:專門用作對照品,可直接配制標準溶液。

SP:光譜純:表示光譜純。然而,由于有機物不能在光譜中顯示,有時主成分低于99.9%,因此在使用時必須注意它,特別是當它用作標準物質時,我們必須對其進行校準。

純度遠高于優等品的試劑稱為高純度試劑(≥ 99.99%). 高純度試劑是在普通試劑的基礎上發展起來的。它是通過特殊方法為特殊目的生產的純度高的試劑。其雜質含量比優質試劑低2、3、4個數量級以上。因此,高純度試劑特別適用于某些痕量分析,而通常的高純度試劑不能滿足這種精密分析的要求。目前,除少數產品(如高純度硼酸、高純度冰乙酸、高純度氫氟酸等)制定標準外,大多數高純度試劑的質量標準并不統一,有高純度、超純、光譜純度等不同名稱,等。根據高純度試劑的不同行業特殊范圍,可分為以下類型:

(1) 光學和電子用高純度化學品,即電子級試劑。

(2) 金屬氧化物半導體是一種用于電子工業的特殊高純度化學品,即up-s級或MOS試劑(閱讀:moss試劑)。一般用于半導體、電子管等方面,雜質的至大含量為0.01-10ppm,有的可以降到ppb級。金屬雜質含量小于1ppb,粉塵水平達到0-2ppb,適用于0.35-0.8微米集成電路加工工藝。

(3) 單晶生產用高純度化學品。

(4) 光纖用高純度化學品。

此外,還有儀器試劑、超純試劑(雜質含量低于1/100萬~1/100萬)、特殊高純度有機材料等。

(5) ICP質量純級試劑:大部分雜質元素含量小于0.1ppb,適合日常ICP質量分析。

(6) ICP純級試劑:大部分雜質元素含量小于1ppb,適用于ICP的日常分析。

(7) AA純級試劑:大多數雜質元素含量低于10 ppb,適用于原子吸收光譜儀(AA)的日常分析。


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